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西格玛光机 GMMUHP无框架反射镜架 GBSMU无框架分光镜架
供应西格玛光机无框架反射镜架GMMUHP无框架分光镜架
GBSMU
成都迈微信是日本西格玛光机中国区指定代理商,供应西格玛光机光学镀膜镜片,调节调整镜架,手动电动位移台,直动平台,旋转平台,角位移台,激光光源等。以及各类平台位移台控制器。
没有反射镜支架的边框,支架正面全部成为反射镜。
由于基板为精密抛光的热膨胀系数小的陶瓷(或是合成石英),能够得到极高的面型精度和温度稳定性。
备有适用YAG激光各种波长谱区的系列产品。
无框反射镜是在精密抛光的陶瓷上镀膜,与一般反射镜的特性相比没有差异。
最大限度地扩大反射镜的有效面积,并且,具有结构紧凑的反射镜调整机构。
反射波面不会随温度变化而变形,最适合于精密的光学系统。
这个产品保证镀膜后(支架状态)的面型精度。
具有高激光损伤阈值,强激光也可使用。
西格玛光机(株)在2011年11月取得这个产品的专利(专利第4586110号)。
信息
基板上的安装方法和MHG反射镜支架一样。
可以安装台柱(PST-**:另售)或立柱(RO-**:另售)。
注意
产品中不附有保证面型精度数据。需要保证面型精度数据文件时,需要额外文件制作费用。请至营业部门问询。
激光等的直线偏振光射入分光镜时,反射率或透过率随偏振方位发生变化。需要严格地调整分束比为1:1时,请45度倾斜偏振光方位或使用圆偏光。
多层电解质膜的反射率波长特性随入射光束的偏光状态变化。P偏光与S偏光相比,反射率变低,反射带谱区变窄。
技术指标的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值来表示的。
用于45°以外的入射角度时,反射率有可能降低。
在设计波长以外的波长谱区使用时,反射率有可能降低。
共同指标
支架部分
功能说明图
类型 |
GMMUHP-24.4 |
GMMUHP-49 GBSMU-49 |
|
可动轴数 |
3轴 |
2轴 |
|
调整范围(°) |
摆动 |
±3 |
±2 |
旋转 |
±3 |
±2 |
|
分辨率(°/周) |
摆动 |
0.74 |
0.26 |
旋转 |
0.74 |
0.26 |
|
主要材质 |
黄铜 |
铝合金 |
|
表面处理 |
超级黑铬 |
黑色阳极氧化 |
|
质量(kg) |
0.04 |
0.16 |
类型 |
反射镜 |
分光镜 |
材质 |
陶瓷 |
合成石英 |
入射角度 |
45°±3° |
|
镀膜后面型精度 |
反射波面 λ/10 |
|
表面质量 |
20-10 |
|
反射率 |
>99% |
平均50±5% |
W3001
目录编号
反射镜类型 |
|||||
型号 |
适用波长 〔nm〕 |
反射镜部形状 〔mm〕 |
镀膜范围 〔mm〕 |
面型精度保证范围 〔mm〕 |
激光损伤阈值※ 〔J/cm2〕 |
GMMUHP-24.4-355 |
355 |
24.4×24.4×7 |
23×23 |
φ20 |
8 |
GMMUHP-24.4-532 |
532 |
24.4×24.4×7 |
23×23 |
φ20 |
26.5 |
GMMUHP-24.4-1064 |
1064 |
24.4×24.4×7 |
23×23 |
φ20 |
28 |
GMMUHP-49-355 |
355 |
49×49×8.5 |
48×48 |
φ30 |
8 |
GMMUHP-49-532 |
532 |
49×49×8.5 |
48×48 |
φ30 |
26.5 |
GMMUHP-49-1064 |
1064 |
49×49×8.5 |
48×48 |
φ30 |
28 |
※激光脉冲时间10ns,重复频率20Hz
分光镜类型 |
||||||
型号 |
适用波长 〔nm〕 |
反射镜部形状 〔mm〕 |
镀膜范围 〔mm〕 |
面型精度保证范围 〔mm〕 |
透过通口直径 〔mm〕 |
激光损伤阈值※ 〔J/cm2〕 |
GBSMU-49-VIS |
400〜700 |
49×49×12 |
48×48 |
φ30 |
φ20 |
2.1 |
型号 |
T |
M |
N |
GMMUHP-49 |
8.5 |
21 |
30 |
GBSMU-49 |
12 |
29.5 |
33.5 |
l
l
面型精度图(参考数据)
面型精度测定方法
使用Zygo激光干涉仪计测
面型精度测量波长
632.8nm
保证面型精度温度
23℃±2℃